| |корозійностійких до UF , або | |
| | 6 | |
| |захищені покриттям з таких | |
| |матеріалів | |
|------------------+-------------------------------+----------------|
|5.7.8. |Ущільнення обертових валів |8484 10 90 00 |
|[0B001.c.4] |(MLIS) |8484 90 90 00 |
|[0B001.d.3] | |8485 90 80 00 |
| |ущільнення обертових валів, що |8484 20 00 00 |
| |мають з'єднання для подачі і |8483 40 |
| |відведення ущільнюючого газу, | |
| |спеціально призначені або | |
| |підготовлені для ущільнення | |
| |вала, який з'єднує ротор | |
| |компресора з привідним мотором,| |
| |таким чином, щоб забезпечити | |
| |надійну герметизацію від | |
| |витікання технологічного газу | |
| |назовні або натікання повітря | |
| |чи ущільнюючого газу до | |
| |внутрішньої камери компресора, | |
| |заповненого сумішшю UF та | |
| | 6 | |
| |газу-носія | |
|------------------+-------------------------------+----------------|
|5.7.9. |Системи фторування (MLIS) |8401 20 00 00 |
|[0B001.h.4] | | |
| |спеціально призначені або | |
| |підготовлені системи для | |
| |фторування UF (твердий стан) у| |
| | 5 | |
| |UF (газ) | |
| | 6 | |
|------------------+------------------------------------------------|
|Примітка. |Такі системи призначені для фторування зібраного|
| |порошку UF у UF з метою подальшого збирання у |
| | 5 6 |
| |контейнерах продукту або подачі на блоки MLIS |
| |для додаткового збагачення. В рамках одного |
| |підходу реакція фторування може бути закінчена в|
| |межах системи розділення ізотопів, де проходить |
| |реакція та безпосереднє вилучення з колекторів |
| |продукту. В рамках іншого підходу порошок UF |
| | 5 |
| |може бути вилученим/переміщеним з колекторів |
| |продукту до підходящого сосуду (наприклад, до |
| |реактора із псевдозрідженим шаром каталізатора, |
| |гелікоїдального реактора або до жарової башти) |
| |для фторування. В обох підходах використовують |
| |обладнання для зберігання та передачі фтору (або|
| |інших підходящих фторуючих реагентів) і |
| |обладнання для збирання та передачі UF . |
| | 6 |
|------------------+------------------------------------------------|
|5.7.10. |Мас-спектрометри/джерела іонів |9027 30 00 10 |
|[0B002.g] |для UF (MLIS) |9027 30 00 90 |
| | 6 | |
| | | |
| |спеціально призначені або | |
| |підготовлені магнітні чи | |
| |квадрупольні мас-спектрометри | |
| |здатні в оперативному режимі | |
| |здійснювати відбір проб маси, | |
| |що подається, продукту або | |
| |хвостів з газових потоків UF , | |
| | 6 | |
| |і мають усі такі | |
| |характеристики: | |
| | | |
| | 1) роздільна здатність | |
| |дорівнює 1 а.о.м. при масі | |
| |більш як 320 а.о.м.; | |
| | | |
| | 2) містить джерела іонів, | |
| |виготовлені з ніхрому або | |
| |монелю чи захищені покриттям з | |
| |таких матеріалів, або | |
| |нікельовані; | |
| | | |
| | 3) містять іонізаційні | |
| |джерела з бомбардуванням | |
| |електронами; | |
| | | |
| | 4) містять колекторну сис- | |
| |тему, придатну для ізотопного | |
| |аналізу | |
|------------------+-------------------------------+----------------|
|5.7.11. |Системи подачі та системи |8401 20 00 00 |
|[0B002] |відведення продукту та хвостів | |
| |(MLIS) | |
| | | |
| |спеціально призначені або | |
| |підготовлені технологічні | |
| |системи чи обладнання для | |
| |збагачувальних установок, | |
| |виготовлені з матеріалів, | |
| |корозійностійких до UF , або | |
| | 6 | |
| |захищені покриттям з таких | |
| |матеріалів, до складу яких | |
| |входять: | |
| |-------------------------------+----------------|
| | a) живильні автоклави, печі |8419 89 30 00 |
| |або системи, |8419 89 98 00 |
| |які використовуються | |
| |для подачі UF у процес | |
| | 6 | |
| |збагачення; | |
| |-------------------------------+----------------|
| | b) десубліматори (або |8401 20 00 00 |
| |охолоджувані уловлювачі), що | |
| |використовуються для вилучення | |
| |нагрітого UF з процесу | |
| | 6 | |
| |збагачення для наступного | |
| |переміщення; | |
| |-------------------------------+----------------|
| | c) станції тверднення або |8419 60 00 00 |
| |зрідження, що використовуються | |
| |для вилучення UF з процесу | |
| | 6 | |
| |збагачення шляхом стискання та | |
| |переведення UF в рідкий або | |
| | 6 | |
| |твердий стан; | |
| |-------------------------------+----------------|
| |d) станції продуктів або |8401 20 00 00 |
| |хвостів, які використовуються | |
| |для переміщення UF до | |
| | 6 | |
| |контейнерів | |
|------------------+-------------------------------+----------------|
|5.7.12. |Системи відокремлення UF від |8401 20 00 00 |
|[0B001.h] | 6 | |
| |газу-носія (MLIS) | |
| | | |
| |спеціально призначені або | |
| |підготовлені технологічні | |
| |системи для відокремлення UF | |
| | 6 | |
| |від газу-носія. Газом-носієм | |
| |може бути азот, аргон або інший| |
| |газ | |
|------------------+------------------------------------------------|
|Примітка. |Такі системи можуть включати таке обладнання, |
| |як: |
| | |
| | a) кріогенні теплообмінники та кріосепаратори,|
| |здатні створювати температуру -120 град.C або |
| |менше; або |
| | |
| | b) блоки кріогенного охолодження, здатні |
| |створювати температуру -120 град.C або менше; |
| |або |
| | |
| | c) охолоджувані уловлювачі UF , здатні |
| | 6 |
| |створювати температуру -20 град.C або менше. |
|------------------+------------------------------------------------|
|5.7.13. |Лазерні системи (AVLIS, MLIS і |8401 20 00 00 |
|[0B001.h] |CRISLA) |9013 20 00 00 |
| | | |
| |Спеціально призначені або | |
| |підготовлені для розділення | |
| |ізотопів урану лазери або | |
| |лазерні системи | |
|------------------+------------------------------------------------|
|Примітка. |Лазери та лазерні компоненти, які є важливими |
| |для процесів збагачення на основі лазера, |
| |включають вироби, зазначені в позиції 3.A.2 |
| |частини II цього Списку. Лазерна система для |
| |процесу AVLIS, як правило, складається з двох |
| |лазерів: лазера на парах міді та лазера на |
| |барвнику. Лазерна система для процесу MLIS, як |
| |правило, складається з CO - лазера або |
| | 2 |
| |ексимерного лазера і багатопрохідної оптичної |
| |комірки з розташованими на обох кінцях |
| |обертовими дзеркалами. Для лазерів та лазерних |
| |систем для обох процесів потрібен стабілізатор |
| |спектральної частоти для роботи протягом |
| |тривалого періоду часу. |
|------------------+------------------------------------------------|
|5.8. |Спеціально призначені або |8401 20 00 00 |
|[0B001.i] |підготовлені системи, | |
| |обладнання та компоненти для | |
| |використання в збагачувальних | |
| |установках з плазмовим | |
| |розділенням | |
|------------------+------------------------------------------------|
|Примітка. |У процесі плазмового розділення плазма, що |
| |складається з іонів урану, проходить через |
| |електричне поле, налаштоване на частоту іонного |
| | 235 |
| |резонансу U , для того щоб вони передусім |
| |поглинали енергію і збільшувався діаметр їх |
| |штопороподібних орбіт. Іони з проходженням по |
| |більшому діаметру захоплюються для утворення |
| | 235 |
| |продукту, збагаченого U . Плазма, утворена за |
| |допомогою іонізації уранової пари, утримується у|
| |вакуумній камері з магнітним полем високої |
| |напруженості, утвореним за допомогою |
| |надпровідного магніту. Основні технологічні |
| |системи процесу включають систему генерації |
| |уранової плазми, розділювальний модуль з |
| |надпровідним магнітом (див. частину II цього |
| |Списку) і системи витягання металу для збору |
| |продукту і хвостів. |
|------------------+------------------------------------------------|
|5.8.1. |Мікрохвильові джерела енергії |8401 20 00 00 |
| |та антени |8543 19 00 00 |
| | | |
| |спеціально призначені або | |
| |підготовлені мікрохвильові | |
| |джерела енергії та антени для | |
| |генерації або прискорення | |
| |іонів, які мають усі такі | |
| |характеристики: частоту більш | |
| |як 30 ГГц; середню вихідну | |
| |потужність для генерації іонів | |
| |більш як 50 кВт | |
|------------------+-------------------------------+----------------|
|5.8.2. |Соленоїди для збудження іонів |8504 50 80 00 |
| | | |
| |спеціально призначені або | |
| |підготовлені радіочастотні | |
| |соленоїди для збудження іонів у| |
| |діапазоні частот більш як | |
| |100 кГц здатні працювати при | |
| |середній потужності більш як | |
| |40 кВт | |
|------------------+-------------------------------+----------------|
|5.8.3. |Системи генерації уранової |8515 80 99 00 |
| |плазми |8543 11 00 00 |
| | |8543 19 00 00 |
| |спеціально призначені або | |
| |підготовлені системи генерації | |
| |уранової плазми, які можуть | |
| |містити високопотужні смужкові | |
| |або растрові електронно- | |
| |променеві гармати з потужністю,| |
| |що подається на мішень, більше | |
| |ніж 2,5 кВт/см | |
|------------------+-------------------------------+----------------|
|5.8.4. |Системи для обробки рідкого |8401 20 00 00 |
| |металевого урану | |
| | | |
| |системи для обробки рідкого | |
| |металу спеціально призначені | |
| |або підготовлені для | |
| |розплавленого урану або | |
| |уранових сплавів, які | |
| |складаються з тиглів та | |
| |охолоджуючого обладнання для | |
| |тиглів | |
|------------------+------------------------------------------------|
|Примітка. |Тиглі та інші частини системи, які вступають у |
| |контакт з розплавленими ураном або сплавами |
| |урану, виготовлені з підходящих корозійно- і |
| |термостійких матеріалів або захищені покриттям з|
| |таких матеріалів. Підходящі матеріали включають |
| |тантал, графіт, покритий оксидом ітрію, графіт, |
| |покритий оксидами інших рідкісноземельних |
| |елементів (див. позицію 2.A.1 частини II цього |
| |Списку), або їх сумішами. |
|------------------+------------------------------------------------|
|5.8.5. |Системи для збору продукту і |8401 20 00 00 |
| |хвостів металевого урану | |
| | | |
| |спеціально призначені або | |
| |підготовлені системи для збору | |
| |продукту і хвостів металевого | |
| |урану в твердому стані. Такі | |
| |колекторні збірки виготовлені з| |
| |матеріалів, стійких до | |
| |теплового та корозійного впливу| |
| |парів металевого урану, таких, | |
| |як покритий оксидом ітрію | |
| |графіт чи тантал, або захищені | |
| |покриттям з таких матеріалів | |
|------------------+-------------------------------+----------------|
|5.8.6. |Корпуси сепараторних модулів |8401 20 00 00 |
| | | |
| |циліндричні сосуди спеціально | |
| |призначені або підготовлені для| |
| |використання в збагачувальних | |
| |установках з плазмовим | |
| |розділенням, для розміщення | |
| |джерела уранової плазми, | |
| |соленоїду радіочастотного | |
| |збудження та систем | |
| |(колекторів) для збору продукту| |
| |і хвостів | |
|------------------+------------------------------------------------|
|Примітка. |Такі корпуси мають багато вхідних отворів для |
| |подачі електроживлення, з'єднання для дифузійних|
| |насосів, а також засоби для здійснення |
| |діагностики та контролю приладів. Корпуси мають |
| |пристосування для відчинення і зачинення, що дає|
| |змогу здійснювати обслуговування внутрішніх |
| |компонентів, і виготовлені з підходящих |
| |немагнітних матеріалів, таких як нержавіюча |
| |сталь. |
|------------------+------------------------------------------------|
|5.9. |Спеціально призначені або |8401 20 00 00 |
|[0B001.j] |підготовлені системи, | |
| |обладнання і компоненти для | |
| |використання в електромагнітних| |
| |збагачувальних установках | |
|------------------+------------------------------------------------|
|Примітка. |В електромагнітному процесі іони металевого |
| |урану, отримані за допомогою іонізації |
| |живильного матеріалу з солей (як правило, UCl ),|
| | 4 |
| |прискорюються та проходять через магнітне поле, |
| |що змушує іони різних ізотопів проходити по |
| |різних траєкторіях. Основними компонентами |
| |електромагнітного сепаратора ізотопів є: |
| |магнітне поле для відхилення/розділення ізотопів|
| |іонного пучка, джерело іонів з його системою |
| |прискорення, і системи збирання розділених |
| |іонів. Допоміжні системи для цього процесу |
| |включають систему електроживлення магніту, |
| |системи високовольтного електроживлення джерела |
| |іонів, вакуумну систему та великі системи |
| |хімічної обробки для відновлення продукту й |
| |очищення/регенерації компонентів. |
|------------------+------------------------------------------------|
|5.9.1. |Електромагнітні сепаратори |8401 20 00 00 |
| |ізотопів | |
| | | |
| |електромагнітні сепаратори | |
| |ізотопів, спеціально призначені| |
| |або підготовлені для розділення| |
| |ізотопів урану, а також | |
| |обладнання і компоненти для | |
| |них, включаючи: | |
| |-------------------------------+----------------|
| | a) джерела іонів |8543 11 00 00 |
| | |8543 19 00 00 |
| |спеціально призначені або | |
| |підготовлені поодинокі або | |
| |численні джерела іонів урану, | |
| |які складаються з джерела | |
| |пари, іонізатора та | |
| |прискорювача іонного пучка, | |
| |виготовлені з підходящих | |
| |матеріалів (графіт, нержавіюча | |
| |сталь або мідь), та здатні | |
| |забезпечити повний струм | |
| |іонного пучка 50 мА або більше;| |
| |-------------------------------+----------------|
| | b) колектори іонів |8401 20 00 00 |
| | | |
| |колекторні пластини, які мають | |
| |дві або більше щілини і пази, | |
| |спеціально призначені або | |
| |підготовлені для збирання | |
| |іонних пучків збагаченого та | |
| |збідненого урану і виготовлені | |
| |з підходящих матеріалів (графіт| |
| |або нержавіюча сталь); | |
| |-------------------------------+----------------|
| | c) вакуумні корпуси |8401 20 00 00 |
| | | |
| |спеціально призначені або | |
| |підготовлені вакуумні корпуси | |
| |для уранових електромагнітних | |
| |сепараторів, виготовлені з | |
| |підходящих немагнітних | |
| |матеріалів (нержавіюча сталь) і| |
| |призначені для експлуатації при| |
| |тиску 0,1 Па або менше; | |
|------------------+------------------------------------------------|
|Примітка. |Корпуси спеціально призначені для розташування |
| |джерел іонів, колекторних пластин та вкладок, що|
| |охолоджуються водою, мають пристосування для |
| |приєднання дифузійних насосів та для відчинення |
| |та зачинення, що дозволяє виймати і замінювати |
| |ці компоненти. |
| |------------------------------------------------|
| | d) магнітні полюсні |8505 90 10 00 |
| |наконечники | |
| | | |
| |спеціально призначені або | |
| |підготовлені магнітні полюсні | |
| |наконечники діаметром більш як | |
| |2 м, що використовуються для | |
| |підтримування постійного | |
| |магнітного поля всередині | |
| |електромагнітного сепаратора | |
| |ізотопів і для передачі | |
| |магнітного поля між сусідніми | |
| |сепараторами | |
|------------------+-------------------------------+----------------|
|5.9.2. |Високовольтні джерела живлення |8401 20 00 00 |
| | |8504 40 50 00 |
| |спеціально призначені або |8504 40 94 00 |
| |підготовлені високовольтні |8504 40 96 00 |
| |джерела живлення для джерел |8504 40 97 00 |
| |іонів, які мають усі такі |8504 40 99 00 |
| |характеристики: | |
| | | |
| | можуть працювати в | |
| |безперервному режимі; | |
| | | |
| | вихідна напруга 20000 В або | |
| |більше; | |
| | | |
| | вихідний струм 1 А або більше;| |
| | | |
| | стабілізація напруги краща ніж| |
| |0,01 відсотка протягом 8 годин | |
|------------------+-------------------------------+----------------|
|5.9.3. |Джерела живлення для магнітів |8401 20 00 00 |
| | | |
| |спеціально призначені або | |
| |підготовлені високопотужні | |
| |джерела живлення постійного | |
| |струму для електромагнітів, які| |
| |мають усі такі характеристики: | |
| | | |
| | можуть працювати в | |
| |безперервному режимі, | |
| |забезпечуючи вихідний струм | |
| |500 А або більше при напрузі | |
| |100 В або більше; | |
| | | |
| | стабілізація струму або | |
| |напруги краща ніж 0,01 відсотка| |
| |протягом 8 годин | |
|------------------+-------------------------------+----------------|
|6. |УСТАНОВКИ ДЛЯ ВИРОБНИЦТВА АБО | |
|[0B004] |КОНЦЕНТРУВАННЯ ВАЖКОЇ ВОДИ, | |
| |ДЕЙТЕРІЮ І ДЕЙТЕРІЄВИХ СПОЛУК | |
| |ТА СПЕЦІАЛЬНО ПРИЗНАЧЕНЕ АБО | |
| |ПІДГОТОВЛЕНЕ ДЛЯ ЦЬОГО | |
| |ОБЛАДНАННЯ | |
|------------------+------------------------------------------------|
|Примітка. |Важку воду можна виробляти, використовуючи різні|
| |процеси. Однак комерційно вигідними є лише два: |
| |процес ізотопного обміну води й сірководню |
| |(процес GS) і процес ізотопного обміну аміаку й |
| |водню. |
| | |
| |Процес GS ґрунтується на обміні водню й дейтерію|
| |між водою та сірководнем у системі колон, які |
| |експлуатуються з холодною верхньою секцією і |
| |гарячою нижньою секцією. Вода тече вниз по |
| |колонах, у той час як сірководневий газ циркулює|
| |від дна до вершини колон. Для сприяння |
| |змішуванню газу й води використовується ряд |
| |дірчастих тарілок. Дейтерій переміщається у воду|
| |при низьких температурах і в сірководень при |
| |високих температурах. Збагачені дейтерієм газ |
| |або вода виділяються з колон першого ступеня на |
| |стику гарячих і холодних секцій, і процес |
| |повторюється в колонах наступного ступеня. |
| |Продукт останньої фази - вода, збагачена |
| |дейтерієм до 30 відсотків, направляється в |
| |дистиляційну установку для виробництва |
| |реакторно-чистої важкої води, тобто 99,75 |
| |відсотка окису дейтерію. |
| | |
| |У процесі обміну між аміаком і воднем можна |
| |здобувати дейтерій із синтез-газу за допомогою |
| |контакту з рідким аміаком у присутності |
| |каталізатора. Синтез-газ подається в обмінні |
| |колони і потім в аміачний конвертер. Усередині |
| |колон газ піднімається від дна до вершини, у той|
| |час як рідкий аміак тече від вершини до дна. |
| |Дейтерій у синтез-газі відривається від водню |
| |та концентрується в аміаку. Аміак надходить |
| |потім в установку для крекінгу аміаку на дні |
| |колони, тоді як газ збирається в аміачному |
| |конвертері на вершині. На наступних ступенях |
| |відбувається подальше збагачення, і шляхом |
| |остаточної дистиляції виробляється реакторно- |
| |чиста важка вода. Подача синтез-газу може бути |
| |забезпечена аміачною установкою, яка у свою |
| |чергу може бути споруджена разом з установкою |
| |для виробництва важкої води шляхом ізотопного |
| |обміну аміаку та водню. У процесі аміачно- |
| |водневого обміну як джерело вихідного дейтерію |
| |може також використовуватися звичайна вода. |
| | |
| |Багато одиниць ключового обладнання для |
| |установок з виробництва важкої води, що |
| |використовують процеси GS або аміачно-водневого |
| |обміну, широко поширені в деяких галузях |
| |нафтохімічної промисловості. Особливо це |
| |стосується невеликих установок, що |
| |використовують процес GS. Однак дуже мало |
| |одиниць обладнання доступні в так званому |
| |готовому вигляді. Процеси GS і аміачно-водневого|
| |обміну вимагають поводження з великою кількістю |
| |займистих, корозійних і токсичних рідин при |
| |підвищеному тиску. Відповідно при розробці |
| |стандартів по проектуванню та експлуатації для |
| |установок і обладнання, що використовують ці |
| |процеси, варто приділяти велику увагу підбору |
| |матеріалів та їх характеристик для того, щоб |
| |забезпечити тривалий строк служби їх збереженням|
| |високої безпеки і надійності. Визначення |
| |масштабів обумовлюється, головним чином, |
| |міркуваннями економіки і доцільності. Таким |
| |чином, більша частина одиниць обладнання |
| |виготовляється відповідно до вимог замовника. |
| | |
| |Як у процесі GS, так і в процесі аміачно- |
| |водневого обміну, одиниці обладнання, які окремо|
| |не призначені або підготовлені спеціально для |
| |виробництва важкої води, можуть збиратися в |
| |системи, спеціально призначені або підготовлені |
| |для виробництва важкої води. Прикладами таких |
| |систем, що застосовуються в обох процесах, є |
| |система каталітичного крекінгу, яка |
| |використовується в процесі обміну аміаку й |
| |водню, і дистиляційні системи, які |
| |використовуються в процесі остаточного |
| |концентрування важкої води, що доводить її до |
| |рівня реакторної якості. |
| |------------------------------------------------|
| |Одиниці обладнання, які | |
| |спеціально призначені або | |
| |підготовлені для виробництва | |