• Посилання скопійовано
Документ підготовлено в системі iplex

Про внесення змін у додаток 1 до Порядку здійснення державного контролю за міжнародними передачами товарів подвійного використання

Кабінет Міністрів України  | Постанова, Список від 17.10.2007 № 1240
Реквізити
  • Видавник: Кабінет Міністрів України
  • Тип: Постанова, Список
  • Дата: 17.10.2007
  • Номер: 1240
  • Статус: Документ діє
  • Посилання скопійовано
Реквізити
  • Видавник: Кабінет Міністрів України
  • Тип: Постанова, Список
  • Дата: 17.10.2007
  • Номер: 1240
  • Статус: Документ діє
Документ підготовлено в системі iplex
| |відповідно до ISO 230/2 (1997)| |
| |або його національного| |
| |еквівалента; та | |
| |b) три або більше осі, які| |
| |можуть бути одночасно| |
| |скоординовані для "контурного| |
| |керування"; або | |
| |2) п'ять або більше осей, які| |
| |можуть бути одночасно| |
| |скоординовані для "контурного| |
| |керування" | |
|------------------+---------------------------------------------|
|Примітка. |Згідно з позицією 2.B.1.c контролю не|
| |підлягають: |
| |1) шліфувальні верстати для оброблення|
| |зовнішніх циліндричних, внутрішніх поверхонь,|
| |а також комбіновані верстати (для шліфування|
| |внутрішніх та зовнішніх поверхонь), які мають|
| |усі наведені нижче характеристики: |
| |a) обмежені циліндричним шліфуванням; та |
| |b) обмежені максимальним зовнішнім діаметром|
| |або довжиною заготовки 150 мм; |
| |2) верстати, спеціально спроектовані для|
| |шліфування за шаблоном, які не мають z - осі|
| |або w - осі, точність позиціонування яких з|
| |"усіма доступними компенсаціями" менше|
| |(краще) ніж 3 мкм відповідно до ISO 230/2|
| |(1997) або його національного еквівалента; |
| |3) плоскошліфувальні верстати. |
|------------------+---------------------------------------------|
|2.B.1.d. |Верстати для електроіскрового|з 845630 |
| |оброблення (EDM) без подачі| |
| |дроту, що мають дві або більше| |
| |осей обертання, які можуть| |
| |одночасно бути скоординовані| |
| |для "контурного керування" | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.1.e. |Верстати для видалення|з 8424 30, |
| |металів, кераміки або|з 8456 10, |
| |"композиційних матеріалів",|8456 91 00 00,|
| |які мають усі наведені нижче|з 8456 99 |
| |характеристики: | |
| |1) видалення матеріалу за| |
| |допомогою: | |
| |a) водяних або інших рідинних| |
| |струменів, включаючи струмені| |
| |з абразивними добавками; | |
| |b) електронного променя; або | |
| |c) променя лазера; та | |
| |2) які мають дві або більше| |
| |осей обертання, що: | |
| |a) можуть бути одночасно| |
| |скоординовані для "контурного| |
| |керування"; та | |
| |b) мають точність позиціювання| |
| |менше (краще) ніж 0,003 град. | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.1.f. |Верстати для свердління|з 8458, |
| |глибоких отворів і токарні|8459 21 00 00 |
| |верстати, які модифіковані для| |
| |свердління глибоких отворів та| |
| |забезпечують максимальну| |
| |глибину їх свердління понад| |
| |5000 мм, а також "спеціально| |
| |призначені компоненти" для них| |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.2. |Верстати з числовим програмним| |
| |керуванням, в яких| |
| |використовується технологічний| |
| |процес магнітореологічного| |
| |чистового оброблення| |
| |(MRF-процес), обладнані для| |
| |виробництва несферичних| |
| |поверхонь, що мають будь-яку з| |
| |наведених нижче характеристик:| |
| |a) фінішне оброблення форми| |
| |менше (краще) 1 мкм; або | |
| |b) фінішне оброблення до| |
| |шорсткості менше (краще) 100| |
| |нм (середньоквадратичне| |
| |значення) | |
|------------------+---------------------------------------------|
|Технічна примітка.|Для цілей позиції 2.B.2. MRF-процес -|
| |технологічний процес видалення матеріалу з|
| |використанням абразивної магнітної рідини,|
| |в'язкість якої керується магнітним полем. |
|------------------+---------------------------------------------|
|2.B.3. |Верстати з "числовим|8461 40 71 00,|
|[2B003] |керуванням" або з ручним|8461 40 79 00 |
| |керуванням і спеціально| |
| |розроблені для них| |
| |"компоненти", обладнання для| |
| |контролю та оснащення,| |
| |спеціально розроблені для| |
| |шевінгування, фінішного| |
| |оброблення, шліфування або| |
| |хонінгування загартованих (Rc| |
| |= 40 або більше) прямозубих| |
| |циліндричних, одно- або| |
| |двозаходових черв'ячних| |
| |(гвинтових) шестерень з| |
| |діаметром понад 1250 мм та| |
| |шириною поверхні зуба, що| |
| |дорівнює 15 відсоткам діаметра| |
| |або більше, з якістю фінішного| |
| |оброблення AGMA 14 або краще| |
| |(відповідно до міжнародного| |
| |стандарту ISO 1328 за класом| |
| |3) | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.4. |"Ізостатичні преси" для|з 8462 99 |
|[2B004] |гарячого пресування, що мають| |
| |усі наведені нижче складові,| |
| |та "спеціально призначені| |
| |компоненти" для них і| |
| |допоміжні пристрої: | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.4.a. |Камери з контрольованими| |
| |тепловими умовами всередині| |
| |замкненої порожнини з| |
| |внутрішнім діаметром 406 мм| |
| |або більше | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.4.b. |Будь-яку наведену нижче| |
| |характеристику: | |
| |1) максимальний робочий тиск| |
| |понад 207 МПа; | |
| |2) контрольовані температурні| |
| |умови понад 1773 К (1500 град.| |
| |C); | |
| |3) обладнання для насичення| |
| |вуглеводнем і виведення| |
| |газоподібних продуктів| |
| |розкладу | |
|------------------+---------------------------------------------|
|Технічна |Внутрішній розмір камери - це робочі розміри|
|примітка. |камери, яка забезпечує робочий тиск і|
| |температуру; до розміру камери не включається|
| |розмір затискних пристроїв. Зазначений розмір|
| |визначається меншим з двох розмірів: |
| |внутрішнього діаметра камери високого тиску|
| |або внутрішнього діаметра ізольованої камери|
| |печі залежно від того, яка з цих камер|
| |знаходиться в іншій. |
|------------------+---------------------------------------------|
|Особлива |Щодо спеціально розроблених штампів, форм та|
|примітка. |інструментів див. позиції 1.B.3, 9.B.9 і ML18|
| |Списку товарів військового призначення,|
| |міжнародні передачі яких підлягають|
| |державному контролю, затвердженого постановою|
| |Кабінету Міністрів України від 20 листопада|
| |2003 р. N 1807 ( 1807-2003-п ). |
|------------------+---------------------------------------------|
|2.B.5. |Обладнання, спеціально| |
|[2B005] |призначене для осадження,| |
| |оброблення та контролю у| |
| |процесі нанесення неорганічних| |
| |захисних шарів, покриттів і| |
| |поверхневих модифікацій,| |
| |наведених нижче, для| |
| |неелектронних підкладок за| |
| |допомогою процесів, зазначених| |
| |у таблиці та примітках до| |
| |позиції 2.E.3.f, а також| |
| |"компоненти", спеціально| |
| |призначені для| |
| |автоматизованого регулювання,| |
| |позиціювання, маніпулювання та| |
| |управління: | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.5.a. |Виробниче обладнання для|8424 20 00 90,|
| |хімічного осадження з парової|8456 91 00 00,|
| |фази (CVD), що має усі|8456 99 |
| |зазначені нижче| |
| |характеристики: | |
| |1) процес, модифікований для| |
| |будь-якого зазначеного нижче| |
| |методу: | |
| |a) пульсуючого хімічного| |
| |осадження з парової фази| |
| |(CVD); | |
| |b) термічного осадження з| |
| |керованим зародкоутворенням| |
| |(CNTD); або | |
| |c) стимульованого плазмою або| |
| |за допомогою плазми CVD; та | |
| |2) використовує будь-що| |
| |наведене нижче: | |
| |a) високий вакуум (дорівнює| |
| |або менше ніж 0,01 Па) для| |
| |ущільнення при обертанні; або | |
| |b) засоби контролю товщини| |
| |шару покриття безпосередньо у| |
| |процесі осадження | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.5.b. |Виробниче обладнання для|8456 10 10 00,|
| |іонної імплантації із силою|8456 10 90 00 |
| |іонного струму 5 мА або більше| |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.5.c. |Виробниче обладнання для|8456 10 10 00,|
| |електронно-променевого |8456 10 90 00 |
| |вакуумного нанесення покриттів| |
| |методом фізичного осадження з| |
| |парової фази електронним| |
| |променем (EB-PVD), яке має| |
| |систему електроживлення з| |
| |розрахунковою потужністю понад| |
| |80 кВт та будь-які наведені| |
| |нижче складові: | |
| |1) "лазерна" система керування| |
| |за рівнем випаровувальної| |
| |ванни, яка точно регулює| |
| |швидкість подавання матеріалів| |
| |(злитків) у зону| |
| |випаровування; або | |
| |2) керований комп'ютером| |
| |покажчик швидкості| |
| |випаровування (монітор), який| |
| |працює за принципом| |
| |фотолюмінесценції іонізованих| |
| |атомів у потоці пари,| |
| |необхідний для контролю| |
| |швидкості осадження складових| |
| |покриття, що містить два або| |
| |більше елементів | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.5.d. |Виробниче обладнання для|8456 91 00 00,|
| |нанесення покриття методом|8456 99 |
| |плазмового напилення, яке має| |
| |будь-яку зазначену нижче| |
| |характеристику: | |
| |1) працює за зниженого тиску| |
| |контрольованої атмосфери| |
| |(дорівнює або менше ніж 10| |
| |кПа, вимірюваного вище або| |
| |всередині 300 мм вихідного| |
| |перерізу сопла плазмового| |
| |пальника) у вакуумній камері,| |
| |що здатна забезпечити зниження| |
| |тиску до 0,01 Па перед| |
| |початком процесу нанесення; | |
| |2) має у своєму складі засоби| |
| |контролю товщини шару покриття| |
| |у процесі нанесення | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.5.e. |Виробниче обладнання для|8456 91 00 00,|
| |металізації розпиленням, що|8456 99 |
| |здатне забезпечити густину| |
| |струму 0,1 мА/кв.мм або більше| |
| |з продуктивністю напилення 15| |
| |мкм/год або більше | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.5.f. |Виробниче обладнання для|8515 80 91 00,|
| |катодно-дугового напилення із|8515 80 99 00 |
| |системою електромагнітів для| |
| |керування активною плямою дуги| |
| |на катоді | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.5.g. |Виробниче обладнання для|8456 10 10 00,|
| |іонного нанесення покриття|8456 10 90 00 |
| |здатне в процесі нанесення| |
| |вимірювати будь-що з| |
| |наведеного нижче: | |
| |1) товщину покриття на| |
| |підкладці та величину| |
| |продуктивності; | |
| |2) оптичні характеристики | |
|------------------+---------------------------------------------|
|Примітка. |Згідно з позиціями 2.B.5.a, 2.B.5.b, 2.B.5.e,|
| |2.B.5.f, 2.B.5.g контролю не підлягає|
| |обладнання для нанесення покриття методом|
| |хімічного осадження з парової фази,|
| |катодно-дугового напилення та нанесення|
| |методом розпилення, іонного нанесення або|
| |іонної імплантації, спеціально призначене для|
| |різальних та обробних інструментів. |
|------------------+---------------------------------------------|
|2.B.6. |Системи або обладнання та| |
|[2B006] |"електронні збірки", наведені| |
| |нижче, для вимірювання або| |
| |контролю за розмірами: | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.6.a. |Контрольно-вимірювальне |9031 80 31 10,|
| |обладнання, кероване|9031 80 31 90 |
| |комп'ютером або з "числовим| |
| |керуванням", яке має| |
| |тривимірну (об'ємну) систему з| |
| |"похибкою вимірювання", що| |
| |дорівнює або менше (краще) ніж| |
| |(1,7 + L/1000) мкм (де L -| |
| |довжина, яка вимірюється в| |
| |міліметрах), та тестується| |
| |відповідно до міжнародного| |
| |стандарту ISO 10360-2 (2001) | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.6.b. |Вимірювальні пристрої для|9031 41 00 00,|
| |лінійних або кутових|9031 49 10 00,|
| |переміщень наведені нижче: |9031 49 90 00 |
| |1) вимірювальні пристрої для| |
| |лінійних переміщень, які мають| |
| |будь-яку зазначену нижче| |
| |складову: | |
|------------------+---------------------------------------------|
|Технічна |Для цілей позиції 2.B.6.b.1 "лінійне|
|примітка. |переміщення" означає відстань між контактною|
| |вимірювальною головкою та об'єктом|
| |вимірювання. |
|------------------+---------------------------------------------|
| |a) вимірювальні системи| |
| |безконтактного типу з| |
| |"роздільною здатністю", що| |
| |дорівнює або менше (краще) ніж| |
| |0,2 мкм, при діапазоні| |
| |вимірювань до 0,2 мм; | |
| |b) системи з лінійним| |
| |регульованим диференційним| |
| |перетворювачем напруги з усіма| |
| |зазначеними нижче| |
| |характеристиками: | |
| |1) "лінійністю", що дорівнює| |
| |або менше (краще) ніж 0,1| |
| |відсотка, в діапазоні| |
| |вимірювань до 5 мм; | |
| |2) відхиленням, що дорівнює| |
| |або менше (краще) ніж 0,1| |
| |відсотка на день, за| |
| |стандартних умов з коливанням| |
| |навколишньої температури| |
| |+- 1 К; або | |
| |c) вимірювальні системи, що| |
| |мають усе наведене нижче: | |
| |1) які містять "лазер"; | |
| |2) які експлуатуються| |
| |безперервно (принаймні 12| |
| |годин при стандартних| |
| |температурі та тиску з| |
| |коливанням навколишньої| |
| |температури +- 1 К) і мають| |
| |усі наведені нижче| |
| |характеристики: | |
| |a) "роздільна здатність" на їх| |
| |повній шкалі становить 0,1 мкм| |
| |або менше (краще); | |
| |b) "невизначеність| |
| |вимірювання" дорівнює або| |
| |менше (краще) ніж (0,2 +| |
| |L/2000) мкм (де L - довжина,| |
| |що вимірюється в міліметрах); | |
| |d) "електронні збірки",| |
| |спеціально призначені для| |
| |забезпечення функції| |
| |зворотного зв'язку в системах,| |
| |що підлягають контролю згідно| |
| |з позицією 2.B.6.b.1.c. | |
|------------------+---------------------------------------------|
|Примітка. |Згідно з позицією 2.B.6.b.1 контролю не|
| |підлягають вимірювальні інтерферометричні|
| |системи, обладнані системою автоматичного|
| |керування, у якій не передбачено використання|
| |техніки зворотного зв'язку, що містять|
| |"лазер" для вимірювання помилок переміщення|
| |рухомих частин верстатів, засобів контролю за|
| |розмірами або подібного обладнання. |
|------------------+---------------------------------------------|
| |2) кутові вимірювальні прилади|9031 41 00 00,|
| |з "кутовою девіацією", що|9031 49 10 00,|
| |дорівнює або менше (краще) ніж|9031 49 90 00,|
| |0,00025 град. |з 9031 80 31, |
| | |9031 80 91 00 |
|------------------+---------------------------------------------|
|Примітка. |Згідно з позицією 2.B.6.b.2 контролю не|
| |підлягають оптичні прилади, такі як|
| |автоколіматори, що використовують колімоване|
| |світло (наприклад, лазерний промінь) для|
| |фіксації кутового відхилення дзеркала. |
|------------------+---------------------------------------------|
|2.B.6.c. |Обладнання для вимірювання|9031 41 00 00,|
| |нерівностей поверхні з|9031 49 10 00,|
| |використанням оптичного|9031 49 90 00 |
| |розсіювання як функції кута з| |
| |чутливістю 0,5 нм або менше| |
| |(краще) | |
|------------------+---------------------------------------------|
|Примітка. |Верстати, що можуть бути використані як|
| |вимірювальні машини, підлягають контролю,|
| |якщо їх параметри відповідають або|
| |перевищують критерії, встановлені для функцій|
| |верстатів або вимірювальних машин. |
|------------------+---------------------------------------------|
|2.B.7. |"Роботи", що мають будь-яку із|8479 50 00 00,|
|[2B007] |зазначених нижче|8537 10 10 00,|
| |характеристик, і спеціально|8537 10 91 00,|
| |спроектовані контролери та|8537 10 99 00 |
| |"виконавчі механізми" до них: | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.7.a. |Здатні в реальному масштабі| |
| |часу повністю обробляти| |
| |трьохвимірне зображення або| |
| |трьохвимірний об'єкт для| |
| |генерації чи модифікації| |
| |"програм", або для генерації| |
| |чи модифікації цифрових даних| |
| |програми | |
|------------------+---------------------------------------------|
|Технічна примітка.|Обмеження аналізу об'єкта не включають|
| |апроксимацію третього виміру шляхом розгляду|
| |під заданим кутом або інтерпретації сірої|
| |шкали для сприйняття глибини або текстури під|
| |час виконання санкціонованих завдань|
| |(2 1/2D). |
|------------------+---------------------------------------------|
|2.B.7.b. |Спеціально розроблені| |
| |відповідно до національних| |
| |стандартів безпеки, здатні| |
| |виробляти вибухівку або| |
| |вибухові пристрої | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.7.c. |Спеціально призначені або| |
| |нормовані як радіаційностійкі,| |
| |що витримують більше ніж| |
| | 3 | |
| |5 x 10 рад (Si) без| |
| |погіршення робочих| |
| |характеристик; або | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.7.d. |Спеціально призначені для| |
| |операцій на висоті понад 30000| |
| |м | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.8. |Вузли або блоки, наведені| |
|[2B008] |нижче, спеціально призначені| |
| |для верстатів або систем і| |
| |обладнання для перевірки| |
| |розмірів або вимірювання: | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.8.a. |Блоки оцінки лінійного|з 8466 |
| |положення із зворотним| |
| |зв'язком (наприклад, прилади| |
| |індуктивного типу, калібровані| |
| |шкали, інфрачервоні системи| |
| |або "лазерні" системи), які| |
| |мають повну "точність" менше| |
| |(краще) ніж| |
| | -3 | |
| |[800 + (600 x L x 10 )] нм| |
| |(L - ефективна довжина, яка| |
| |вимірюється в міліметрах) | |
|------------------+---------------------------------------------|
|Особлива примітка.|Для "лазерних" систем застосовується також|
| |примітка до позиції 2.B.6.b.1. |
|------------------+---------------------------------------------|
|2.B.8.b. |Блоки оцінки положення|з 8466 |
| |обертання із зворотним| |
| |зв'язком (наприклад, прилади| |
| |індуктивного типу, калібровані| |
| |шкали, інфрачервоні системи| |
| |або "лазерні" системи), які| |
| |мають "точність" менше (краще)| |
| |ніж 0,00025 град. | |
|------------------+---------------------------------------------|
|Особлива примітка.|Для "лазерних" систем застосовується також|
| |примітка до позиції 2.B.6.b.1. |
|------------------+---------------------------------------------|
|2.B.8.c. |"Комбіновані обертові столи"|з 8466 |
| |або "інструментальні шпинделі,| |
| |що нахиляються", використання| |
| |яких за специфікацією| |
| |виробника може модифікувати| |
| |верстати до рівня, зазначеного| |
| |у позиції 2.B або вище | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.9. |Обкатні вальцювальні та|8462 29 10 00,|
|[2B009] |згинальні верстати, які|8463 90 00 00 |
| |відповідно до технічної| |
| |специфікації виробника можуть| |
| |бути обладнані блоками| |
| |"числового керування" або| |
| |комп'ютерного керування та| |
| |мають усі наведені нижче| |
| |характеристики: | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.9.a. |З двома або більше осями| |
| |керування, дві з яких здатні| |
| |одночасно координуватися для| |
| |"контурного керування"; та | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.B.9.b. |З зусиллям на обкатному| |
| |інструменті понад 60 кН | |
|------------------+---------------------------------------------|
|Технічна примітка.|Верстати, у яких поєднані функції обкатних|
| |вальцювальних та згинальних верстатів,|
| |розглядаються для цілей позиції 2.B.9 як|
| |такі, що належать до обкатних вальцювальних|
| |верстатів. |
|------------------+---------------------------------------------|
|2.C. |МАТЕРІАЛИ | |
|------------------+------------------------------+--------------|
| |Відсутні | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.D. |ПРОГРАМНЕ ЗАБЕЗПЕЧЕННЯ | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.D.1. |"Програмне забезпечення",|з 8524 |
|[2D001] |інше, ніж те, що підлягає| |
| |контролю згідно з позицією| |
| |2.D.2, спеціально призначене| |
| |або модифіковане для| |
| |"розроблення", "виробництва"| |
| |або "використання" обладнання,| |
| |зазначеного в позиціях 2.A або| |
| |2.B | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.D.2. |"Програмне забезпечення" для|з 8524 |
|[2D002] |електронних пристроїв, навіть| |
| |якщо воно вмонтоване в| |
| |електронний пристрій або| |
| |систему, яке надає можливість| |
| |таким пристроям або системам| |
| |функціонувати як блок| |
| |"числового керування", здатний| |
| |одночасно координувати більше| |
| |ніж 4 осі для "контурного| |
| |керування" | |
|------------------+---------------------------------------------|
|Примітка 1. |Згідно з позицією 2.D.2 контролю не підлягає|
| |"програмне забезпечення", спеціально|
| |розроблене або модифіковане для верстатів,|
| |які не підлягають контролю згідно з позиціями|
| |розділу 2. |
|------------------+---------------------------------------------|
|Примітка 2. |Згідно з позицією 2.D.2 контролю не підлягає|
| |"програмне забезпечення" для виробів, що|
| |контролюються згідно з позицією 2.B.2. Щодо|
| |контролю за "програмним забезпеченням" для|
| |виробів, які контролюються згідно з позицією|
| |2.B.2., див. позицію 2.D.1. |
|------------------+---------------------------------------------|
|2.E. |ТЕХНОЛОГІЯ, ПОСЛУГИ ТА РОБОТИ | |
|------------------+------------------------------+--------------|
|2.E.1. |"Технологія" відповідно до|з 3705, |
|[2E001] |пункту 3 загальних приміток|3706, 8524, |
| |для "розроблення" обладнання|4901 99 00 00,|